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x射線光電子能譜分析的基本原理

2024年5月20日??PHI， X 射線光電子能譜XPS是材料科學(xué)和發(fā)展的領(lǐng)域中最廣泛使用的表面分析技術(shù)escalab 250xi x射線光電子能譜儀 thermo fisher。

X射線光電子能譜技術(shù)XPS是電子材料 與元器件顯微分析中的一種先進(jìn)分析技術(shù)，而且是和俄歇電子能譜技術(shù)AES常常配合使用的分析技術(shù)由于它可以比俄歇電子能譜技術(shù)更準(zhǔn)確地測量原子的內(nèi)層電子束縛能及其化學(xué)位移，所以它不但為化學(xué)研究提供分子結(jié) 詳情簡介 發(fā)展簡史 基本原理 XPS特點(diǎn) 全部。